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氮氣潔凈烘箱 光刻膠無塵烘箱 百級烘箱 適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫藥、實驗室等生產及科研.
產品型號：JS-廠商性質：生產廠家更新時間：2025-09-17訪 問 量：1513
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氮氣潔凈烘箱 光刻膠無塵烘箱 百級烘箱工藝
不同的勻膠轉速，對應不同的光刻膠厚度，厚度越大，由于曝光的穿透深度以及光的衍射，光刻的分辨率就會越低，并且會在光刻膠側壁形成明顯的梯形。厚度太薄的話，在刻蝕的時候會被刻穿，要根據需要刻蝕的深度選擇合適的光刻膠厚度，從而選擇合適的轉速
在勻膠結束后，使用溫度95°烘5min來提高光刻膠的致密性以及與晶圓的粘附性。
氮氣潔凈烘箱 光刻膠無塵烘箱 百級烘箱指標
潔凈度：Class100、1000
溫度：RT+15～200/300/400℃；
氣體：N2
計時功能：可選
設備材質：內部SUS304不銹鋼
工作尺寸（mm）：
450×450×500
500×500×550
600×700×800
（可定制）
網板：活動式2-5塊
運行模式：定值或程式
操作界面：按鍵或彩色觸摸屏
氮氣潔凈烘箱 光刻膠無塵烘箱用途
適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫藥、實驗室等生產及科研.
驅趕膠中的溶劑
提高膠對襯底的黏附性
提高膠的抗腐蝕能力
優化膠的光學吸收特性
提高涂膠的均勻性
提高條寬控制能力
通過前烘，基片上的光刻膠基本固化。
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