氣相成底膜鍍膜機 HMDS真空烘箱烘箱選型

這類設備通常屬于特種真空鍍膜設備或表面處理設備的范疇。上海雋思既有標準機型，也常見根據客戶工藝需求定制的非標設備。

根據不同種類氣體及應用基材可分為以下不同機型：

增粘劑：HMDS真空處理系統（HMDS真空烘箱）,主要用于半導體、芯片、掩膜版 等光刻工藝增強光刻膠粘附性； 

             納米陶瓷材料、航天保溫材料、等新材料表面改性處理，以達到防水、防油、防腐的作用。

偶聯劑：偶聯劑蒸鍍機（偶聯劑真空涂膠機），主要用于半導體、生物芯片、派瑞、林鍍膜預處理、光學玻璃防油/防指紋等工藝，疏水性處理。

脫模劑：脫模劑蒸鍍機（抗粘劑蒸鍍機），主要用于納米壓印工藝中圖像轉移時，與模板脫離的抗粘性處理；

憎水劑：憎水性處理系統（憎水劑涂布機），主要用于介孔材料、納米纖維棉、防水防腐保溫卷材、建筑材料等

氣相成底膜鍍膜機 HMDS真空烘箱選型時需考慮的關鍵點：

1. 腔體尺寸：根據您的產品尺寸和形狀即產量決定。

        高校及科研機構可選：300*300*300（可兼容1-8寸產品）或450*450*450mm（可兼容1-12寸產品）內尺寸；

        半導體、生物芯片、納米壓印等可選450*450*450或500*500*600mm（可兼容1-12寸產品），可定制；

        納米陶瓷材料、航天保溫材料、等新材料可選500*500*600mm或1000*1000*1000（可定制）

        納米介孔材料、纖維棉、防水防腐保溫卷材、建筑材料等可選1000*1000*1000或1700*1000*1800mm（可定制）

2. 最高工作溫度：必須滿足您所用偶聯劑的反應溫度要求。 

          常用工作溫度為80-160℃

3. 真空度范圍：決定了環境的潔凈度和可控性。

          常用500-80000pa

4. 氣體系統的精度與穩定性：這是成膜質量的核心。

         氣體系統根據氣體種類不同定制

5. 自動化程度：根據您的生產節拍和工藝穩定性要求選擇。

          可選標配機型、智能型、自動化MES系統

   總結來說，氣相成底膜鍍膜機 HMDS真空烘箱設備是一種G端、精密的表面工程技術裝備。它通過將偶聯劑處理從“濕化學"領域提升到“干法氣相"領域，

實現了對界面結構的原子/分子級精確控制，是制造業和前沿科學研究中不能缺的專用設備。