六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中，通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會導致后續的光刻顯影環節出現“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善，這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在箱內先經過100℃-200℃的去水烘烤，再進行HMDS處理，不需要從箱內傳出，而接觸到空氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有更好的處理效果。
智能型HMDS真空系統（JS-HMDS90-AI）將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
智能型HMDS系統真空泵，HMDS涂膠機干泵密封設計（電機和所有軸承與真空環路*隔開）延長了軸承的使用壽命， 還可提供潔凈、無油的真空條件?？蛇x的集成入口保護閥內置于泵模塊中， 可根據需要使用，不會額外增加泵的高度。
